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Data reg. 02/03/2016

radtech europe - programme de la journee technique - itech lyon (f) - 9 novembre 1993

Autore: j. c. mutschler, i. gendret, j. p. genevay, b. pamart, j. p. philibert, j. f. le morzellec, j. d. wohlhauser, j. r. seidel, m. decaux, d. beziers
Titolo (tr): Programma della giornata tecnica di Radtech Europa - Lione, 9 novembre 1993

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Inv.:1556
Volume:1
ISBN:
Anno:1993
Pagine:
Nazione:FRA
Lingua:francese
Editore/rivista:Radtech Europe
Dove si trova:biblioteca - edificio A -armadio 7

Parole chiave

UV, arti grafiche, inchiostri UV, vernici UV, legislazione, serigrafia, stabilità, resistenza, energia UV, prodotto finito, vernici UV, stabilità alla luce, policarbonato, rivestimento, colore, polimerizzazione, automobili, Renault, reticolazione, brillantezza, indurimento, esposizione Florida, acceleratori di elettroni,applicazioni industriali, aerospazio,ionizzazione.

Sommario

Raccolta dei dieci interventi tenutisi nella giornata: - Gli UV nelle arti grafiche; - Inchiostri UV per la serigrafia, a base acquosa; - Prestazioni dei sistemi UV nel campo dei rivestimenti; - Nuovo metodo di gestione dell'energia UV; - Vernici UV su policarbonato, stabili alla luce; - Colorazioni UV polimeralizzabili: applicazioni a parti di automobili; - Linee guida per rivestimento e laminazione con indurimento; - Altre linee guida, inizio di inventario; - Confronto di test accelerati di formulazioni di acrilati; - Acceleratore di elettroni e sue applicazioni indotte per compositi.